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              200系列光刻機 —— TFT曝光


              SSB225

              SSB245

              SSB260

              SSB200系列投影光刻機采用先進的投影光刻機平臺技術,專用于AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路制造,可應用于2.5代~6代的TFT顯示屏量產線。該系列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,顯著降低用戶使用成本。
                 產品特征

              ● 高精度,分辨率可達1.5μm

              ● 支持小Mask,可用6英寸掩模實現12英寸屏幕制造

              ● 具備智能化校準及診斷功能,方便設備參數校調及用戶周期性維護

                 主要技術參數

              型號

              分辨率

              套刻精度

              基板尺寸

              SSB225/10

              2μm L/S

              0.6μm

              370mm×470mm
              500mm×500mm

              SSB225/20

              1.5μm L/S

              0.5μm

              370mm×470mm
              500mm×500mm

               SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
               SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
               SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
              1500mm×1850mm
               SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
              1500mm×1850mm

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